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    • 专利摘要:
    本發明係有關於一種用於一微影系統中支撐一晶圓臺之支撐結構，其包括：一底座，其包括一參考面；一接口構件，係由低於該底座之熱膨脹係數之材料所製成，其設置於該底座上，以將該晶圓臺定位於該支撐結構上，其中，該接口構件係藉由至少一支柱，連接至該參考表面，且該至少一支柱係由一具有低於該底座之熱膨脹係數之材料所製成。本發明更有關於一包含如上述之支撐結構之微影系統。
    公开号:TW201320234A
    申请号:TW101132695
    申请日:2012-09-07
    公开日:2013-05-16
    发明作者:Pieter Kappelhof；Jerry Johannes Martinus Peijster；Dennis Kemperman
    申请人:Mapper Lithography Ip Bv；
    IPC主号:G03F7-00
    专利说明:
    晶圓臺之支撐結構
    本發明係有關於一支撐結構或卡盤，可於不斷變化溫度的狀態下，將一晶圓臺於支撐結構上精確定位。
    支撐結構係為本領域中所習知者，例如美國專利4,758,901所述之一用於定位一工件之裝置，該裝置包含用於支撐該工件之支撐構件，其中，該支撐構件包括一個或以上參考平面，係用於沿著至少兩個正交座標方向建立之該工件所需方向，該參考平面係包括一參考面，係設置於該支撐構件上並垂直於一對應之座標方向；基板構件，係引導平移運動至該工件；以及耦合構件，係用於耦合該支撐構建置該基板構件，從而該基板構件之熱膨脹係與該支撐構件分離。根據此美國專利所述之支撐構件較佳包括一具有低熱膨脹係數之材料，如ZerodurTM，用於固定的參考面與工件之間的空間關係。
    已知裝置的一個缺點是，低的熱膨脹材料往往較為昂貴且難以加工。
    本發明之一態樣係提供一種用於晶圓臺之支撐結構，其係易於製造且成本較低。
    本發明之一態樣係提供一種用於一微影系統中支撐一晶圓臺之支撐結構，其包括：一底座，其包括一參考面；一接口構件，係由低於該底座之熱膨脹係數之材料所製成，其設置於該底座上，以將該晶圓臺定位於該支撐結構上，；以及一彈性支座，於該底座上支撐該接口構件，其中，該彈性支座允許該接口構件於一移動平面中實質上相對於該底座移動；其特徵在於，該接口構件係藉由至少一支柱，連接至該參考表面，其中，該至少一支柱係由一具有低於該底座之熱膨脹係數之材料所製成，且該至少一支柱沿著該移動平面平行之方向實質上為剛體。該接口構件相對於該底座為可移動，且較佳設置於一晶圓臺朝向該底座之一側上，該底座具有一不同(通常較高)於該接口構件及該至少一支柱之熱膨脹係數。
    較佳地，該接口構件及/或該支柱之熱膨脹係數係低於該底座之熱膨脹係數至少10倍，更佳地，低於該底座之熱膨脹係數至少100倍，最佳地，低於該底座之熱膨脹係數至少1000倍。
    即便當該底座以一不同於接口構件之方式變形，例如，熱膨脹，該至少一支柱確保該參考面及該接口構件之間的距離實質上保持固定。由於使用該至少一支柱，該接口構件朝向該晶圓臺之一側可具有一區域，實質上小於該底座朝向晶圓臺之相對側，從而實質上減少需用於製造該接口構件之材料組成，且也因此減少材料花費及接口構件之加工。
    於一實施例中，該參考面係一實質上平坦的表面，垂直於該移動平面，及/或垂直於該底座朝向該接口構件之一側。該參考面因此適合於反射光束，例如干涉器光束、或適合於反射場，如電容場，平行於該移動平面及/或該底座朝向接口構件之一側。
    於一實施例中，該參考面包含一鏡面反射面，較佳為設置於底座的邊緣，更佳為設置於底座的邊緣及外邊緣，以利用一個或多個干涉器確定支撐結構的位置。該鏡面較佳係為一平面鏡面，具有垂直於該移動平面及/或垂直於該底座朝向晶圓臺一側之一反射面。
    於一實施例中，該參考面係為一第一參考面及該至少一支柱，其包括一個或多個第一支柱；該底座更包括一第二參考面，其實質上垂直該第一參考面，且該接口構件係藉由至少一第二支柱連接至該第二參考面，該第二支柱係由一低膨脹係數之材料所製成。該支撐結構從而提供參考面，以測量該支撐結構於一系統中之位移，例如一投影系統或一微影系統，於兩個垂直方向中，例如，測量該底座相對於該系統於X軸及Y軸方向之位移。於一種較不優先之替代實施例中，該第一及第二參考面係相互形成一角度。
    於一實施例中，該至少一支柱包括兩個相互隔開且相互平行延伸之支柱。該些支柱係皆同時以一端連接至該接口構件，而另一端連接至該底座之參考面，實質上抑制繞著垂直該移動平面之軸之旋轉，如：當該移動平面平行於XY平面時，繞Z軸之旋轉。顯而易見地，無論第一支柱或第二支柱，或兩者，皆可包括兩個或以上的支柱。於一較佳實施例中，第一支柱的數量係等於第二支柱的數量。
    於一實施例中，該第一及第二支柱之支柱，實質上係為相同結構，以利於製造該支撐結構。
    於一實施例中，該彈性支座係適於實質上限制該接口構件相對於該底座，於該移動平面之法線方向之移動。換言之，該彈性支座於該移動平面之法線方向上實質上為剛體。例如，該彈性支座可允許該接口構件相對於該底座沿著XY平面移動，同時實質上限制該接口構件相對於該底座沿著垂直於該平面之Z軸移動。
    於一實施例中，該移動平面係實質上平行於該晶圓臺之一晶圓支撐平面，及/或實質上垂直於該參考面。例如，假如一晶圓係由該晶圓臺所支撐，該晶圓臺平行於一XY平面，接著該彈性支座允許在XY平面上之移動，而大致限制了接口構件相對於該底座沿著X軸或Y軸之傾斜。
    於一實施例中，該至少一支柱至少於該支柱之長度方向為剛體。該支柱從而限制該接口構件相對於該底座，沿著該支柱之長度方向之移動。
    於一實施例中，該至少一支柱係於實質上垂直於該長度方向之方向上為彈性。該支柱從而允許該接口構件相對於該底座在垂直於其長度方向之一方向上之部分移動。
    於一實施例中，該至少一支柱係彈性的，或適於在一平面中彎曲，該平面係至少實質上平行於該底座，及/或實質上平行於該移動平面。部分相對於該底座之接口構件之移動從而可能平行該平面。較佳地，該至少一支柱係實質上於其他方向上較該平面為硬，從而使得該接口構件相對於該底座之移動被限制在這些方向上。
    於一實施例中，該至少一支柱係至少由該接口構件延伸到至少該參考面上。介於該參考面及該接口構件間之整個距離係從而藉由該支柱連接，該支柱包含一低熱膨脹係數材料，例如：一材料具有低於該底座之熱膨脹係，較佳係至少低於10倍，更佳為至少100倍或1000倍。
    於一實施例中，該至少一支柱之一第一端係固定於該參考面，且一相對該第一端之第二端係固定於該接口構件。
    於一實施例中，該至少一支柱係沿長度方向延伸，實質上垂直於該參考面，且較佳係實質上垂直其依附之接口構件。因此，該底座沿著垂直該參考構件方向之變形而造成該支柱施加於該接口構件上之任何力量，實質上係沿著該支柱之長度方向。
    於一實施例中，該接口構件係與該底座分離，避免該底座與該接口構件間之摩擦。
    於一實施例中，藉由一設置於該底座及該接口構件間之彈性支座，該接口構件係彈性固定於該底座上。該彈性支座，有時也表示為彈性裝置，較佳適於允許該接口構件或支撐板之部分移動於相對於該底座，沿著至少垂直該至少一支柱長度方向之方向，並且平行於該底座上。較佳地，沿著垂直該底座方向，該彈性支座實質上限制該底座及該接口構件間之距離變化。
    於一實施例中，該彈性支座包括複數個彈性接腳，每一彈性接腳係一端連接至該接口構件及另一端連接至該底座。該彈性支座可包括三個非設置於同一直線上之接腳，但可替代性地包含一接腳陣列，如於國際專利公開號第2009/124731所述，其描述一具有支撐結構之微影裝置，該支撐結構包含一卡盤，用以保持暴露一目標物；一平台，用以支撐該卡盤；以及一剪力順應(shear compliant)的延長元件陣列，其垂直延伸至卡盤及平台，並具有接觸該卡盤支第一端以及接觸該平台之第二端。
    於一替代實施例中，該接口構件係藉由一彈性支座支撐於該底座上，該彈性支座包含至少一彈簧支架、一流體，液體或膠體、一滑動連結。基本上，於移動平面上，相對於該底座，允許該接口構件移動之任何種類的彈性支座，皆可使用。
    於一實施例中，該彈性支座具有一熱膨脹係數，至少於該垂直移動平面之方向，其實質上等於該底座之熱膨脹係數。因此，於溫度改變該底座及該彈性支座沿著Z軸之熱膨脹將會相似，從而實質上避免平行該移動平面之一平面外的支柱之彎曲。於此，可降低支柱之應力，並且實質上降低該接口構件相對於底座之傾斜及/或旋轉，甚至全部避免。較佳地，該彈性支座，如，包含或由在此描述之該些接腳組成，包含一具有實質上與該底座之熱膨脹係數相等之熱膨脹係數。更佳地，該彈性支座及該底座，或至少該底座支撐該參考面之部分，實質上包含一相同的材料，如一金屬，例如：鋁。
    於一實施例中，該接口構件包括兩個或以上的定位構件，其係相互隔開且適於將該晶圓臺定位於該支撐結構上。該定位構件從而提供一容易且準確的方式以該參考面對準該晶圓臺。較佳地，該接口構件包括三個相互隔開之定位構件。
    於一實施例中，該定位構件至少實質上形成一用於該晶圓臺之動力支架。
    於一實施例中，該接口構件包括一單片式接口板，其係提供於該兩個或以上定位構件，其中，該接口板係較佳以一低熱膨脹係數材料製成，如，ZerodurTM。
    於一實施例中，該接口構件包括一框架，其係固定並剛性連接該兩個或以上定位構件。本發明從而提供一剛性框架，即便在不斷變化的溫度條件下，其於該兩個或以上的定位構件間之相對位置保持實質上的恆定。
    於一實施例中，該框架係實質上為一中空框架。本發明從而提供一剛性且輕量之框架。
    於一實施例中，該底座實質上包括一具有高熱導係數之材料，例如：高於該接口構件之熱導係數；較佳地，其中該材料係為一金屬，如：鋁；於底座上形成之熱量梯度因此大幅降低，從而底座之任何熱膨脹可大致均勻。一般而言，該底座因此具有一高熱導電係數，以及一高熱膨脹係數，而該接口構件具有一低熱膨脹係數及低熱導電係數。較佳地，該底座之熱膨脹係數係高於該接口構件之熱膨脹係數至少10倍，更佳地係高於100倍，最佳係至少高於135倍。
    根據一第二態樣，本發明係提供一微影系統，包括一前述之支撐結構。
    於一實施例中，該微影系統更包括一光束源，以產生一個或以上光束；複數個投影光學元件，用以聚焦該一個或以上光束於一目標物上；一晶圓臺，係設置於該支撐結構上且適用於該微影系統中，支撐一待處理目標物；一驅動器，用以驅動該支撐結構相對於該投影光學元件之移動；一量測系統，用以決定相對於該投影光學元件之該支撐結構之參考面之一位置或位移；以及一控制器，基於該決定之位置或位移而控制該驅動器。於投影系統中，因該參考面相對於該接口構件之位置大致上固定，由量測系統所得之測量提供於晶圓臺上位置準確的資訊。
    於一實施例中，該微影系統係適於以該一個或以上光束來圖案化該目標物，較佳地，係於該支撐結構相對於該投影光學元件移動時。特別是於無遮罩之帶電粒子微影系統中，其中如晶圓之目標物係於圖案化過程中，相對於該投影光學元件而移動，需要目標物相對於該投影光學元件的精準定位，例如，避免圖案重疊或拼接的錯誤。
    根據一第三態樣，本發明係提供一用於一微影系統中支撐一晶圓臺之支撐結構，該支撐結構包括一底座，其包括一參考面；一接口構件，係以一低熱膨脹係數材料所製成，設置於該底座之頂部且適於將該晶圓臺定位於該支撐結構上，其中，該接口構件係透過至少一支柱連接至該參考面，且該至少一支柱係以一低熱膨脹材料所製成。
    盡可能個別地描述及呈現於說明書中可應用的各種態樣及特徵。這些個別的態樣，特別是在隨附之附屬項中的態樣及特徵，可作為分割專利申請案之主題。
    圖1係顯示一根據本發明之支撐結構1或卡盤之直角坐標視圖，適用於支撐一晶圓臺並可於一系統中沿著X軸及Y軸方向移動，如一投影系統及/或一微影系統。於一典型包含根據本發明之支撐結構的投影系統或微影系統中，該支撐結構係可沿著X及Y方向移動，例如，用以相對於投影系統或微影系統之投影光學元件，精確定位一固定於該晶圓臺之目標物。這樣的投影系統或微影系統可更包括一微調階段，於六個自由度上，微調晶圓臺之位移。
    可透過決定界於支撐結構之第一參考面40及/或第二參考面50與系統中之一固定點間的位移量，測量該支撐結構於此一系統中之位移量。於該實施例所示，該第一及第二參考面各自包括一鏡面的反射面，從而可藉由使用干涉儀測出該支撐結構於投影系統中之位移量，其中，該干涉儀係發射光束至相對應之參考面40、50，並接收分別代表沿X和Y方向的位移量的反射光束。
    該支撐結構包括一底座20，並於其上提供彼此相互垂直同時亦垂直於XY平面之參考面40、50。當一目標物設置於一依序設置在支撐結構1上之晶圓臺上時，該目標物之一被照射之表面係實質上位於該第一及第二參考面相交之一平面。因此，在X和Y方向中的目標物位置，可以測量在被照射面上的目標物水平。底座20之接腳24、25提供於額外的支撐，以用於提供於該底座邊緣上之該參考面40、50。
    一接口板30，也可稱為接口構件，係設置於該底座20上，以此方式，其可相對於該底座20，於XY移動平面中移動。該接口板30係提供三個定位構件31、32、33，以定位其上之晶圓臺，並且包括彼此相對朝向偏離軸線之V型凹槽，即便於不斷變化的溫度條件下，該接口板30係以一低熱膨脹係數材料製成，如ZerodurTM。於此，一低熱膨脹係數材料可為實質上具有低於該底座之熱膨脹係數之任何材料。該底座20包括一輕量化金屬，鋁，其具有一相對高的熱膨脹係數，例如，高於該接口板30材料之熱膨脹係數。雖底座20可因熱膨脹而變形，底座之高熱導係數減少底座20中之局部溫度梯度之形成，從而實質上減少因熱膨脹而造成該底座20之非均勻變形。更具體地，該參考面40、50之非均勻變形從而實質上減少。參考面40係藉由兩個延伸之第一支柱60、61連接至該接口板30，該第一支柱係朝向平行X軸方向且以一低熱膨脹係數材料所製。該第一支柱60、61係實質上相互相鄰，延伸通過該參考面40，且包含第一端62、63，其藉由連接器41固定於該參考面40，以及第二端64、65，而接觸該接口板。因此，參考面40沿著X方向之任何位移，例如因底座之熱膨脹，將導致接口板30之相對位移，從而沿著X方向，界於該參考面40與任何於接口板30之任一點間之距離係保持實質上恆定。當該接口板包括一低熱膨脹係數材料時，沿著X方向，界於該定位構件31、32、33及該參考面40間之距離係於該底座20之熱膨脹過程中，保持實質上恆定。
    參考面50係藉由兩個分離並延伸出的第二支柱66、67連接至該接口板30，該第二支柱66、67係包括一低熱膨脹係數材料且朝向其長度方向平行之Y方向。該第二支柱66、67係延伸穿過該參考面50，且包括第一端68、69，其藉由連接器51、52固定於該參考面50，以及第二端70、71，其接觸該接口板30。因此，參考面50沿著Y方向之任何位移，例如因底座20之熱膨脹，將導致接口板30之相對位移，從而沿著Y方向，界於該參考面40與任何於接口板30之任一點間之距離係於該底座20之熱膨脹過程中，保持實質上恆定。第一及第二支柱60、61、66、67實質上連接界於參考面40、50與該接口板間之全部距離。再者，當該第二支柱66、67相互分離時，其也實質上限制接口構件繞著垂直XY平面之軸的旋轉。
    該支撐結構1適於沿著該X及Y方向承載一平台於其上，且包含附件裝置81、82、83，其接觸該底座20及延伸穿過該底座背向該接口板30之一側。該接口板30係以在該底座熱膨脹之過程中可與該附件裝置81、82、83包持分離而成形。雖所示的接口板30實質上為一實心板，其中具有孔洞以隔開該接口板及該附件裝置83，允許相對容易加工該接口板30，於一替代實施例中，該接口板30可包括一框架，係實質上固定且剛性地相互連接該定位構件31、32及33，以確保該接口板之材料及重量。於此替代實施例中，該框架較佳實質上係一中空框架。例如，於該替代實施例中，該接口板可包括一實質上中空、剛硬的三角框架，係包括三個實質上剛硬的低膨脹係數之支柱，較佳地，其中該三個支柱之末端形成該三角框架之頂點，且其中每個定位構件係較佳設置於該三角框架之頂點附近。
    圖2A顯示圖1支撐結構之上視圖。該些支柱60、61、66、67係實質上形成具有相同直徑及實質上為矩形之橫截面。該些支柱60、61、66、67實質上係沿著其相對長度方向為剛體，且於相對大致垂直該長度方向之方向係輕微具有彈性。因此，當該底座20沿著X軸方向擴張時，該些支柱66、67之第二端71、70仍可相對於其第一端68、69移動。該些支柱66、67撓曲程度相當，因此實質上限制該接口板30相對於該底座20繞著垂直X及Y方向之軸的旋轉。
    透過提供一面積大致小於該底座20之接口構件30並將其設置於該底座上，則無需實質上改變支撐結構1之外部尺寸，即可降低成本並加工低熱膨脹係數材料。
    圖2B係顯示圖2A沿著I-I線之側視圖。可看到該接口板30透過一包含彈性接腳21、22、23之彈性支座設置於該底座20上。該些彈性接腳21、22、23係相對之第一端接觸該底座20，及相對之第二端接觸該接口板30。透過該些接腳21、22、23以允許該接口板移動於相對該底座於XY平面上，，如沿著X及/或於該平面上之平移，及/或繞著垂直該平面之軸之旋轉，其沿著長度方向實質上為剛體，從而界於該接口板及該底座間之空間28實質上保持恆定，即使該些接腳具有彈性。於該實施例所示，該彈性支座包含與三個接腳實質上相交之定位構件31、32、33。然而，任何可將該接口板30移動地設置於該底座上之方法皆可使用，例如：使用一包含多個彈性接腳之陣列；一液體、流體或膏狀物接觸該接口板及該底座並設置於其間；於該底座及/或該接口板上之低摩擦面等。
    圖2C係詳細顯示接腳23及其接觸之接口板30與底座20。該接腳23係以第一端23a接觸該底座20。該接腳係延伸其長度部分穿過該底座之一中空部位27，從而使得該接腳23除了其第一端23a外，係與該底座20分離。該中空部位27於X及Y方向上提供一空間給該接腳23，允許該底座及該接口板可設置為盡可能相互靠近，同時以其間之一空間27保持分離。圖2C更詳細顯示該底座係以一具有多個中空內部部位20a、20b之中空框架所製，更進一步降低該支撐結構之整體重量。
    應了解的是，上述是為了說明的較佳實施例之操作，不應以此限制本發明的範圍。從上述討論，對本領域技術人員而言，許多變化將是顯而易見，其皆包括於本發明的精神和範圍中。
    1‧‧‧支撐結構
    20‧‧‧底座
    20a,20b‧‧‧中空內部部位
    21,22,23‧‧‧彈性接腳
    23a‧‧‧第一端
    24,25‧‧‧鰭片
    27‧‧‧中空部位
    28‧‧‧空間
    30‧‧‧接口板
    31,32,33‧‧‧定位構件
    40,50‧‧‧參考面
    41,51,52‧‧‧連接器
    60,61‧‧‧第一支柱
    66,67‧‧‧第二支柱
    62,63,68,69‧‧‧第一端
    64,65,70,71‧‧‧第二端
    81,82,83‧‧‧附件裝置
    於附圖中呈現之示範型實施例的基礎上，將闡明本發明，其中：
    圖1係一示意圖，顯示一根據本發明之支撐結構之直角坐標視圖。
    圖2A係圖1支撐結構之上視圖。
    圖2B係圖2A沿著I-I線之側視圖。
    圖2C係圖2B沿著II部分之細節圖。
    1‧‧‧支撐結構
    20‧‧‧底座
    24,25‧‧‧鰭片
    27‧‧‧中空部位
    30‧‧‧接口板
    31,32,33‧‧‧定位構件
    40,50‧‧‧參考面
    41,51,52‧‧‧連接器
    60,61‧‧‧第一支柱
    66,67‧‧‧第二支柱
    62,63,68,69‧‧‧第一端
    64,65,70,71‧‧‧第二端
    81,82,83‧‧‧附件裝置
    权利要求:
    Claims (28)
    [1] 一種用於一微影系統中支撐一晶圓臺之支撐結構，包括：一底座，其包括一參考面；一接口構件，係由一低於該底座之熱膨脹係數之材料所製成，其設置於該底座上，且用以將該晶圓臺定位於該支撐結構上；以及一彈性支座，於該底座上支撐該接口構件，其中，該彈性支座允許該接口構件於一移動平面中實質上相對於該底座移動；其中，該接口構件係藉由至少一支柱，連接至該參考表面，其中，該至少一支柱係由一具有低於該底座之熱膨脹係數之材料所製成，且該至少一支柱沿著該移動平面平行之方向實質上為剛體。
    [2] 如申請專利範圍第1項所述之支撐結構，其中，該參考面係包括一鏡面反射面，且排列於該底座之邊緣。
    [3] 如申請專利範圍第1項所述之支撐結構，其中，該參考面係為一第一參考面，且該至少一支柱包括一個或以上第一支柱；該底座更包括一第二參考表面，實質上係垂直該第一參考面，其中，該接口構件係藉由至少一第二支柱連接至該第二參考面，該第二支柱係由一低膨脹係數之材料所製成。
    [4] 如前述申請專利範圍任一項所述之支撐結構，其中，該彈性支座係用於實質上限制該接口構件相對於該底座於一垂直於該移動平面之方向上移動。
    [5] 如前述申請專利範圍任一項所述之支撐結構，其中，該移動平面係實質上平行於該晶圓臺之一晶圓支撐平面，並及/或實質上垂直於該參考面。
    [6] 如前述申請專利範圍任一項所述之支撐結構，其中，該至少一支柱係至少於該支柱之長度方向為剛性。
    [7] 如申請專利範圍第6項所述之支撐結構，其中，該至少一支柱係於實質上垂直於該長度方向之方向上為彈性。
    [8] 如申請專利範圍第6或7項所述之支撐結構，其中，該至少一支柱係為彈性，以彎曲於一至少實質上平行於該底座之平面中。
    [9] 如前述申請專利範圍任一項所述之支撐結構，其中，該至少一支柱係至少由該接口構件延伸到至少該參考面上。
    [10] 如申請專利範圍第9項所述之支撐結構，其中，該至少一支柱之一第一端係固定於該參考面，且一相對該第一端之第二端係固定於該接口構件。
    [11] 如前述申請專利範圍任一項所述之支撐結構，其中，該至少一支柱實質上垂直於該參考面而朝長度方向延伸。
    [12] 如前述申請專利範圍任一項所述之支撐結構，其中，該接口構件係與該底座分離。
    [13] 如前述申請專利範圍任一項所述之支撐結構，其中，該彈性支座係排列於該底座及該接口構件之間。
    [14] 如申請專利範圍第13項所述之支撐結構，其中，該彈性支座包括複數個彈性接腳，該彈性接腳係一端連接至該接口構件及另一端連接至該底座。
    [15] 如申請專利範圍第13項所述之支撐結構，其中，該彈性支座具有一熱膨脹係數，其至少於該移動平面之垂直方向上，實質上等於該底座之一熱膨脹係數。
    [16] 如前述申請專利範圍任一項所述之支撐結構，其中，該接口構件包括兩個或以上相互隔開之定位構件，且係用於將該晶圓臺定位於該支撐結構上。
    [17] 如申請專利範圍第16項所述之支撐結構，其中，該定位構件至少實質上形成一用於該晶圓臺之動力支架。
    [18] 如申請專利範圍第16或17項所述之支撐結構，其中，該接口構件包括一單片式接口板，係提供於該兩個或以上定位構件。
    [19] 如申請專利範圍第18項所述之支撐結構，其中，該接口構件係以一低熱膨脹係數材料製成，其係為ZerodurTM。
    [20] 如申請專利範圍第16、17或19項所述之支撐結構，其中，該接口構件包括一框架，其係固定並剛性連接該兩個或以上定位構件。
    [21] 如申請專利範圍第20項所述之支撐結構，其中，該框架係為一中空框架。
    [22] 如申請專利範圍前述任一項所述之支撐結構，其中，該底座包括一具有高熱導係數之材料。
    [23] 如申請專利範圍第22項所述之支撐結構，其中，該材料係一金屬，該金屬係為鋁。
    [24] 如前述申請專利範圍任一項所述之支撐結構，其中，該參考面係為一實質上平坦的表面，其垂直於該移動平面及/或垂直於該底座朝向該接口構件之一側。
    [25] 一種微影系統，其包括根據如前述申請專利範圍任一項所述之支撐結構。
    [26] 如申請專利範圍第25項所述之微影系統，該投影系統更包括：一光束源，以產生一個或以上之光束；複數個投影光學元件，用以聚焦該一個或以上光束於一目標物上；一晶圓臺，係設置於該支撐結構上且用於該微影系統中，以支撐一待處理目標物；一驅動器，用以驅動該支撐結構相對於該投影光學元件之移動；一量測系統，用以決定相對於該投影光學元件之該支撐結構之參考面之一位置或位移；以及一控制器，基於該決定之位置或位移，以控制該驅動器。
    [27] 如申請專利範圍第25或26項所述之微影系統，其中，當該支撐結構相對於該投影光學元件移動時，該微影系統係以該一個或以上之光束圖案化該目標物。
    [28] 一種用於一微影系統中支撐一晶圓臺之支撐結構，包括：一底座，其包括一參考面；一接口構件，係以一低熱膨脹係數材料所製成，設置於該底座之頂部且用於在該支撐結構上定位該晶圓臺，其中，該接口構件係透過至少一支柱連接至該參考面，且該至少一支柱係以一低熱膨脹材料所製成。
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    US201161532584P| true| 2011-09-09|2011-09-09||
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